<div id="iaygc"><div id="iaygc"></div></div><div id="iaygc"></div>
<div id="iaygc"><button id="iaygc"></button></div>
<small id="iaygc"><wbr id="iaygc"></wbr></small>
<div id="iaygc"><button id="iaygc"></button></div>
<wbr id="iaygc"><button id="iaygc"></button></wbr><div id="iaygc"></div>
<div id="iaygc"></div>
<div id="iaygc"></div>
磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
您當前的位置 : 首 頁 > 產品中心 > 磁控與離子束復合
磁控與離子束復合

磁控與離子束復合

  • 所屬分類:磁控與離子束復合
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2020-08-07 15:37:37
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

磁控與離子束復合系統

設備用途:

磁控與離子束復合系統用于納米級單層及多層功能膜、 硬質膜、 金屬膜、 半導體膜、 介質膜、 鐵磁膜和磁性薄膜等的制備。 可廣泛應用于半導體、 微電子及新材料領域。

設備組成:

系統主要由濺射真空室、 磁控濺射靶、 基片水冷加熱公轉臺、 Kaufman 離子槍、 四工位轉靶、 工作氣路、 抽氣系統、 真空測量、 電控系統及安裝機臺等部分組成。

技術指標:

極限真空度:≤6.67×10-5 Pa (經烘烤除氣后);

系統真空檢漏漏率:≤5.0×10-7 Pa.l/S;停機12小時≤5Pa.

系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,45分鐘可達到6.67×10-4Pa;

系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機臺及電控系統等部分組成。

標簽

上一篇:沒有了
下一篇:沒有了

最近瀏覽:

相關產品

相關新聞

国外性直播视频免费观看网站
<div id="iaygc"><div id="iaygc"></div></div><div id="iaygc"></div>
<div id="iaygc"><button id="iaygc"></button></div>
<small id="iaygc"><wbr id="iaygc"></wbr></small>
<div id="iaygc"><button id="iaygc"></button></div>
<wbr id="iaygc"><button id="iaygc"></button></wbr><div id="iaygc"></div>
<div id="iaygc"></div>
<div id="iaygc"></div>