• <rp id="leqdp"><object id="leqdp"><input id="leqdp"></input></object></rp>
    <span id="leqdp"></span>
    <nav id="leqdp"><optgroup id="leqdp"><noframes id="leqdp"></noframes></optgroup></nav>

        <progress id="leqdp"></progress>
      1. 磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
        您當前的位置 : 首 頁 > 產品中心 > 離子束鍍膜
        單室離子束鍍膜

        單室離子束鍍膜

        • 所屬分類:離子束鍍膜
        • 瀏覽次數:
        • 發布日期:2020-08-07 15:37:54
        • 產品概述
        • 性能特點
        • 技術參數

        單室離子束鍍膜設備

        設備用途:

        單室離子束鍍膜設備系統為高真空多功能離子束沉積系統, 系統可用于開發納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

        設備組成:

        系統主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監測系統、 泵抽系統、 真空測量系統、 氣路系統、 電控系統等組成。

        技術指標:

        1、極限真空度:≤8.0×10-5Pa (經烘烤除氣后);

        2、系統真空檢漏漏率:≤5.0×10-8Pa.L/S;停機12小時≤5Pa.

        3、系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,45分鐘可達到6.6×10-4Pa;

        4、系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機臺及電控系統等部分組成。

        標簽

        上一篇:沒有了
        下一篇:沒有了

        Z近瀏覽:

        相關產品

        相關新聞

      2. <rp id="leqdp"><object id="leqdp"><input id="leqdp"></input></object></rp>
        <span id="leqdp"></span>
        <nav id="leqdp"><optgroup id="leqdp"><noframes id="leqdp"></noframes></optgroup></nav>

            <progress id="leqdp"></progress>