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磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
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單室離子束鍍膜

單室離子束鍍膜

  • 所屬分類:離子束鍍膜
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2020-08-07 15:37:54
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

單室離子束鍍膜設備

設備用途:

單室離子束鍍膜設備系統為高真空多功能離子束沉積系統, 系統可用于開發納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

設備組成:

系統主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監測系統、 泵抽系統、 真空測量系統、 氣路系統、 電控系統等組成。

技術指標:

1、極限真空度:≤8.0×10-5Pa (經烘烤除氣后);

2、系統真空檢漏漏率:≤5.0×10-8Pa.L/S;停機12小時≤5Pa.

3、系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,45分鐘可達到6.6×10-4Pa;

4、系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機臺及電控系統等部分組成。

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