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磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
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熱阻蒸發

熱阻蒸發

  • 所屬分類:熱阻蒸發
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2020-08-07 15:39:04
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

熱阻蒸發系統

設備用途: 

熱阻蒸發系統適用于制備金屬薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作。

設備組成:

該設備主要由金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。可配合手套箱組裝。

技術參數:

極限真空度≤6.6×10-5Pa;

抽速:40分鐘可達到6×10-4Pa;

熱阻蒸發組件:2套;

有機蒸發束源爐組件:1套;

樣品尺寸:φ100mm×1片;

樣品臺溫度:300℃;

分子泵系統:1套;

膜厚監測儀(1個探頭):1套;

冷卻水路系統:1套;

自動控制系統:1套。

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