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        濺射鍍膜技術

        2022-02-18 09:26:32

        濺射鍍膜技術

        薄膜是一種特殊的物質形態,由于其在厚度這一特定方向上尺寸很小,只是微觀可測的量,而且在厚度方向上由于表面、界面的存在,使物質連續性發生中斷,由此使得薄膜材料產生了與塊狀材料不同的獨特性能。薄膜的制備方法很多,如氣相生長法、液相生長法(或氣、液相外延法)、氧化法、擴散與涂布法、電鍍法等等,而每一種制膜方法中又可分為若干種方法。薄膜技術涉及的范圍很廣,它包括以物理氣相沉積和化學氣相沉積為代表的成膜技術,以離子束刻蝕為代表的微細加工技術,成膜、刻蝕過程的監控技術,薄膜分析、評價與檢測技術等等?,F在薄膜技術在電子元器件、集成光學、電子技術、紅外技術、激光技術以及航天技術和光學儀器等各個領域都得到了廣泛的應用,它們不僅成為一間獨立的應用技術,而且成為材料表面改性和提高某些工藝水平的重要手段。

        濺射是薄膜淀積到基板上的主要方法。濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊鍍料表面,使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術。

        一.濺射工藝原理

        濺射鍍膜有兩類:離子束濺射和氣體放電濺射

        1. 離子束濺射:在真空室中,利用離子束轟擊靶表面,使濺射出的粒子在基片表面成膜。


        CKG-60三靶共濺薄膜制備


        特點:

        ①離子束由特制的離子源產生

        ②離子源結構復雜,價格昂貴

        ③用于分析技術和制取特殊薄膜

        2. 氣體放電濺射:利用低壓氣體放電現象,產生等離子體,產生的正離子,被電場加速為高能粒子,撞擊固體(靶)表面進行能量和動量交換后,將被轟擊固體表面的原子或分子濺射出來,沉積在襯底材料上成膜的過程。

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