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磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
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磁控濺射卷繞鍍膜技術!

2021-06-22 10:23:52

磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上,進行單層或多層鍍膜。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!

磁控濺射卷繞鍍膜技術由于覆蓋領域廣泛,雖然比蒸發卷繞鍍膜技術起步晚,但發展極為迅速,在未來的高科技領域和環保節能領域將大有可為。

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞。

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

JGP-560型雙室磁控濺射系統

磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。

磁控濺射除上述已被大量應用的領域,還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。




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