• <rp id="leqdp"><object id="leqdp"><input id="leqdp"></input></object></rp>
    <span id="leqdp"></span>
    <nav id="leqdp"><optgroup id="leqdp"><noframes id="leqdp"></noframes></optgroup></nav>

        <progress id="leqdp"></progress>
      1. 磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
        您當前的位置 : 首 頁 > 新聞資訊 > 行業新聞

        主要的磁控濺射系統方式有哪些?

        2020-07-21 09:25:15

        磁控濺射系統設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材,目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產,那么大家知道目前的磁控濺射系統設備主要的濺射方式有哪幾種么?下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

        磁控濺射鍍膜設備原理解析

        主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

        現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.

        直流濺射發展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法。

        而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材中毒等現象.

        而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

        如果尋找本質區別是:直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們Z常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區別就是電源的區別.

        以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式,希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。

        磁控濺射


        標簽

        Z近瀏覽:

      2. <rp id="leqdp"><object id="leqdp"><input id="leqdp"></input></object></rp>
        <span id="leqdp"></span>
        <nav id="leqdp"><optgroup id="leqdp"><noframes id="leqdp"></noframes></optgroup></nav>

            <progress id="leqdp"></progress>