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磁控濺射,東北磁控濺射廠家,電弧熔煉
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真空鍍膜主要是為了減少反射!

2020-07-22 08:55:41

磁控濺射技術是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術,該技術實現了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜,具有高速、低溫、低損傷的特點。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!

真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。鏡頭的真空鍍膜是根據光學的干涉原理,在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物),使鏡頭對這一波長的色光的反射降至低。

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。

靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。

離子束濺射系統


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